常用光交联型光刻胶/光聚合型/光分解型三种类型

产品名称：常用光交联型光刻胶/光聚合型/光分解型三种类型

产品描述：

常用光交联型光刻胶/光聚合型/光分解型三种类型 西安齐岳生物主要业务面向国内科研院所和高校、以及科技创中小企业，帮助客户实现较度取得较量的科研和生产用耗材。公司目前经营的产品有委托加工、设备、硅片、衬底、光刻胶、度试剂、净耗材、货源，响应速度快，国内外货源充实。 ? 型号 光源 类型 分辨率 厚度（um) 适用范围 SU-8 GM10xx系列 g/h/i-Line 负性 0.1um 0.1-200 具有较大的高宽比，透明度高，垂直度。 SU-8 Microchem g/h/i-Line 负性 0.5um 0.5-650 具有较大的高宽比，透明度高，垂直度。 ? g/h/i-Line 正性 1um 1—30 可用于选择性电镀电镀，深硅刻蚀等工艺。 NR26-25000P g/h/i-Line 负性 ? 20-130 厚度大，相对容易去胶。 型号 光源 类型 分辨率 厚度（um) 适用范围 SU-8 GM1010 电子束 负性 100nm 0.1-0.2 可用于做高宽比较大的纳米结构。 HSQ 电子束 负性 6nm 30nm~180nm 分辨率较好的光刻胶，抗刻蚀。 XR-1541-002/004/006 HSQ Fox-15/16 电子束 负性 100nm 350nm~810nm 分辨率较好的光刻胶，抗刻蚀。 (国产) 电子束 正性 \ \ 高分辨率，适用于电子束光刻工艺，较常用的电子束光刻正胶。 （） 电子束 正性 \ \ MicroChem，分子量，适用于电子束光刻工艺，较常用的电子束光刻正胶。 型号 光源 类型 分辨率 厚度（um) 适用范围 S18xx系列 g-Line 正性 0.5um 0.4-3.5 较常用的薄光刻胶，分辨率高，稳定。 SPR955系列 i-Line 正性 0.35um 0.7-1.6 高分辨率（0.35um）光刻胶，稳定。 BCI-3511 i-Line 正性 0.35um 0.5-2 国产0.35um光刻胶，已经在量产单位规模使用。 NRD6015 248nm 负性 0.2um 0.7-1.3 国产深紫外光刻胶，已经在量产单位规模使用。 型号 光源 类型 分辨率 厚度（μm) 适用范围 KXN5735-LO g/h/i-Line 负性 4μm 2.2-5.2 负性光刻胶;倒角65-80°，使用普通正胶显影液显影。 LOL2000/3000 g/h/i-Line / NA 130nm-300nm 非感光性树脂，可以被显影液溶解，作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。 ROL-7133 g/h/i-Line / 4um 2.8-4 负性光刻胶，倒角75~80°，使用普通正胶显影液。 品名 主要成分 包装 应用 / / 正胶显影液 TMAH 2.38% 4LR/PC 正胶显影液 / / 正胶稀释剂 PGMEA 4LR/PC 稀释剂 / / SU8 显影液 PGMEA 4L/PC 显影SU8光刻胶 / / RD-HMDS HMDS 500ml/PC 增粘剂 / / OMNICOAT 见MSDS 500ml/PC SU-8增粘剂 / / ? 光刻胶是光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。目前，集成电路生产中使用的光刻胶一般由聚合物骨架、光致酸产生剂或光敏化合物、溶剂，以及显影保护基团、刻蚀保护基团等其他辅助成分组成 。光刻胶是微电子中微细图形加工的关键材料之一，是近年来大规模和大规模集成电路的发展，更是大大了光刻胶的研究研究和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人研究成功的聚乙烯醇肉桂酸酯是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。 ? 光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。 ?光刻胶的复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。 光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶?。利用这种性能，将光刻胶作涂层，能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。 光聚合型 采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，生成聚合物，具有形成正像的特点。 光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。 光交联型 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种的负性光刻胶。 ? 光刻胶材料制备壁垒高 光刻胶所属的微电子化学品是电子行业与化工行业交叉的领域，是的密集行业。从事微电子化学品业务需要具备与电子产业前沿发展相匹配的关键生产，如混配、分离、纯化以及与生产过程相配套的分析检验、环境处理与监测等。同时，下游电子产业多样化的使用场景要求微电子化学品生产企业有较强的配套能力，以及时和改进产品工艺来满足客户的需求。 光刻胶的生产工艺主要过程是将感光材料、树脂、溶剂等主要原料在恒温恒湿 1000 级的黄光区洁净房进行混合，在氮气气体保护下充分搅拌，使其充分混合形成均相液体，经过多次过滤，并通过中间过程控制和检验，使其工艺和质量要求，后做产品检验，合格后在氮气气体保护下包装、打标、入库。 ? 光刻胶的生产工艺简要流程 光刻胶的壁垒包括配方，质量控制和原材料。配方是光刻胶实现功能的，质量控制能够光刻胶性能的稳定性而的原材料则是光刻胶性能的基础。 ? 配方：由于光刻胶的下游用户是IC芯片和FPD面板制造商，不同的客户会有不同的应用需求，同一个客户也有不同的光刻应用需求。一般一块半导体芯片在制造过程中需要进行10-50道光刻过程，由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等，不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样，即使类似的光刻过程，不同的厂商也会有不同的要求。针对以上不同的应用需求，光刻胶的品种多，这些差异主要通过调整光刻胶的配方来实现。因此，通过调整光刻胶的配方，满足差异化的应用需求，是光刻胶制造商的。 ? 质量控制：由于用户对光刻胶的稳定性、一致性要求高，包括不同批次间的一致性，通常希望对感光灵敏度、膜厚的一致性保持在较高水平，因此，光刻胶生产商不要配臵的测试仪器，还需要建立一套严格的QA体系以产品的。 ? 原材料：光刻胶是一种经过严格设计的复杂、的配方产品，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等不同-性质的原料，通过不同的排列组合，经过复杂、的加工工艺而制成。因此，光刻胶原材料的品质对光刻胶的质量起着关键作用。对于半导体化学化学试剂的纯度，际半导体设备和材料（SEMI）制定了统一标准 产品供应： 产品名称 cas 1-丙烯酸金刚烷酯 121601-93-2 1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 16887-36-8 丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯 7398-56-3 4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2 1,3-金刚烷二醇单丙烯酸酯 216581-76-9 2-甲基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 249562-06-9 2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯 303186-14-3 1,3-金刚烷二醇二丙烯酸酯 81665-82-9 2-氧代六氢-2H-3,5-亚甲基环戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯 254900-07-7 甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯[ 34759-34-7 2-异丙基-2-金刚烷丙烯酸甲酯 297156-50-4 2-异丙基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 251564-67-7 gamma-丁内酯-3-基异丁烯酸酯 130224-95-2 N-异丙基甲基丙烯酰胺 13749-61-6 (9H-芴-9,9-二基)双(亚甲基)二丙烯酸酯 583036-99-1 (5-氧代四氢-呋喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯 156938-09-9 1-乙基环戊基甲基丙烯酸酯 266308-58-1 1-异丙基-1-环己醇甲基丙烯酸酯 811440-77-4 2-甲基-2-丙烯酸4-羟基苯基酯 31480-93-0 n-butyl2-(bromomethyl)prop-2-enoate 170216-64-5 2-(溴甲基)丙烯酸甲酯 4224-69-5 甲基丙烯酸-9-蒽甲酯 31645-35-9 2-oxo-2-((2-oxohexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-6-yl)oxy)ethylmethacrylate[ 347886-81-1 2-乙烯基萘 827-54-3 2-环己基丙烷-2-基甲基丙烯酸酯 186585-56-8 2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯 195000-66-9 丙烯酸甲基环戊酯 178889-49-1 丙烯酸1-乙基环戊酯 326925-69-3 2-氧代四氢-呋喃-3-基丙烯酸酯 328249-37-2 4-叔丁氧基苯乙烯 95418-58-9 4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸 69260-42-0 甲基丙烯酸-2,2,3,3,4,4,4-七氟代-丁酯 13695-31-3 3-(4-vinylphenyloxy)-1-propene 16215-47-7 acetic acid,4-ethenylbenzene-1,2-diol 57142-64-0 1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯 157057-20-0 1-甲基环己基甲基丙烯酸酯 76392-14-8 2-氧代-2-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)乙基甲基丙烯酸酯 1176273-16-7 2,5-二甲基己烷-2,5-二基双(2-甲基丙烯酸酯) 131787-39-8 1-甲基环戊基甲基丙烯酸酯 178889-45-7 1-乙基环己基甲基丙烯酸酯 274248-09-8 4-异丙基苯酚 4286-23-1 (2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate 13818-44-5 乙酸-2-乙烯基苯基酯 63600-35-1 2-(金刚烷-1-基)丁-2-基甲基丙烯酸酯 325991-26-2 1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate 51920-52-6 甲基丙烯酸四氢-呋喃-2-基酯 15895-80-4 oxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate 52858-59-0 6-methacryloyl-6-azabicyclo[3.2.0]heptan-7-one 1267624-16-7 3-叔丁氧基苯乙烯 105612-79-1 2-丙烯酸3-(二乙氧基甲基甲硅烷基)丙基酯 13732-00-8 2,3-二羟基丙烯酸丙酯 10095-20-2 2-[(4-乙烯基苯氧基)甲基]环氧乙烷 2653-39-6 3,5-二乙酰氧基苯乙烯 155222-48-3 2-(2,2-二氟乙烯基)双环[2.2.1]庚烷 123455-94-7 二苯基酰氯 1483-72-3 双［4-(1,1-二甲基乙基)苯基］鎓与三氟甲磺酸的盐 84563-54-2 全氟丁基磺酸三苯基锍盐 144317-44-2 双(4-叔丁基苯基)氯鎓 5421-53-4 TBPDPS-PFBS 258872-05-8 1二(4-叔丁基苯基)鎓全氟代丁烷磺酸盐 194999-85-4 (4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸 111281-12-0 N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸 85342-62-7 六氟二酐（6FDA) 1107-00-2 9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴 (FFDA) 127926-65-2 9,9-双(4-氨基苯基)芴 （FDA) 15499-84-0 4,4’-二氨基-2,2’-二甲基联苯 (M-Tolidine) 84-67-3 2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基) 六氟丙烷 83558-87-6 1,3-双(3-氨基苯氧基)苯 (APB) 10526-07-5 4,4'-双(4-氨苯氧基)联苯(BAPB) 13080-85-8 1,3-双(4-氨苯氧基)苯 2479-46-1 4,4-二氨基联苯-2,2-二羧酸 17557-76-5 2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基苯基醚 344-48-9 ODA 4,4'-二氨基二苯醚 101-80-4 BAPP 2,2'-双[4-(4-氨基苯氧基苯基)]丙烷 13080-86-9 TPE-Q 1,4-双(4-氨基苯氧基)苯 3491/12/1 BPADA 双酚A型二醚二酐 38103-06-9 BTDA 3,3',4,4'-二苯甲酮四甲酸二酐 2421-28-5 BPDA 3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐 2420-87-3 CBDA 环丁烷四甲酸二酐 4415-87-6 DABA 3,5-二氨基苯甲酸 535-87-5 TFMB 2,2'-双(三氟甲基)二氨基联苯 341-58-2 A-BPDA 2,3,3',4'-联苯四甲酸二酐 36978-41-3 BOAFL 9,9-二[(2,3-环氧丙氧基)苯基]芴 47758-37-2 TCA 四氢-1H-5,9-甲烷吡喃并[3,4-d]噁英-1,3,6,8(4H)-四酮 6053-46-9 ODPA 4,4'-氧双邻苯二甲酸酐 1823-59-2 A-ODPA 3,4'-氧双邻苯二甲酸酐 50662-95-8 HFBAPP 2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷 69563-88-8 4-溴-N-苯基咔唑 1097884-37-1 3,6-二溴-9-(2-乙基己基)-9h-咔唑 173063-52-0 N-(2-萘基)-3-溴咔唑 934545-80-9 1-溴-N-苯基咔唑 1333002-37-1 3,6-二叔丁基咔唑 37500-95-1 3,6-二溴咔唑 6825-20-3 1-溴咔唑 16807-11-7 2-溴咔唑 3652-90-2 2-氯咔唑 10537-08-3 2-羟基咔唑 86-79-3 3-溴咔唑 1592-95-6 3,6-二苯基-9H-咔唑 56525-79-2 4-溴-9H-咔唑 3652-89-9 3-苯基-9H-咔唑 103012-26-6 11,12-二氢-12,12-二甲基茚并[1,2-a]咔唑 1329054-41-2 9-(4-溴苯基)咔唑 57102-42-8 10-溴-7H-苯并[c]咔唑 1698-16-4 9-(3-溴苯基)-9H-咔唑 185112-61-2 9-(2-溴苯基)-9H-咔唑 902518-11-0 3-溴-N-苯基咔唑 1153-85-1 3,6-二溴-9-苯基咔唑 57103-20-5 3--9-苯基咔唑 502161-03-7 9-(1-萘基)-3-溴咔唑 934545-83-2 3-(4-溴苯基)-9-苯基-9H-咔唑 1028647-93-9 2-溴-9-苯基-9H-咔唑 94994-62-4 2-(2-氯-苯基)-1H-苯并咪唑 3574-96-7 3,3'-联咔唑 1984-49-2 3,9'-联咔唑 18628-07-4 吲哚并[3,2-b]咔唑 241-55-4 吲哚并[3,2-b]咔唑 6336-32-9 5,11-二氢-11,11-二甲基茚并[1,2-b]咔唑 1260228-95-2 5,7-二氢-7,7-二甲基-茚并[2,1-b]咔唑 1257220-47-5 9-(4'-溴联苯-4-基)-9H-咔唑 212385-73-4 4,4'-二(9-咔唑)联苯 58328-31-7 5,12-二氢-12,12-二甲基茚并[1,2-c]咔唑 1346645-54-2 5,7-二氢-吲哚并[2,3-b]咔唑 111296-90-3 吲哚并[2,3-a]咔唑 60511-85-5 9H-咔唑-3-硼酸频哪醇酯 855738-89-5 9-(4-苯基苯基)咔唑 6299-16-7 14H-苯并[c]苯并[4,5]噻吩并[2,3-a]咔唑 1313395-18-4 9-(2-萘基)-3,6-二溴咔唑 1221237-83-7 2,7-二溴咔唑 36630-39-2 2-苯基-9H-咔唑 88590-00-5 咔唑 86-74-8 9H-咔唑-3,6-二甲腈 57103-03-4 3,6-二咔唑 57103-02-3 3-氰基咔唑 57102-93-9 9,9'-二([1,1'-联苯]-4-基)-3,3'-联-9H-咔唑 57102-51-9 3-氯咔唑 2732-25-4 N-(3-联苯基)-N-(4-联苯基)-3,3-双咔唑 1643479-47-3 5,7-二氢-5-苯基吲哚[2,3-b]咔唑 1448296-00-1 9'-苯基-9H,9H'-3,3'-咔唑 1060735-14-9 3,6-二乙氧基咔唑 1707264-12-7 9-苯基-9H,9H-3,3-咔唑 10607435-14-9 9-乙烯卡唑 1484-13-5 4-硼酸三苯胺 201802-67-7 二苯并噻吩-4-硼酸 108847-20-7 (3,5-二苯基苯)硼酸 128388-54-5 3-溴苯硼酸 89598-96-9 苯硼酸 98-80-6 2-硝基苯基硼酸 5570-19-4 2-氟苯硼酸 1993/3/9 4-甲苯硼酸 5720/5/8 2,4-二氟苯硼酸 144025-03-6 4-氟苯硼酸 1765-93-1 2-氯-苯基硼酸 3900-89-8 3-氯苯硼酸 63503-60-6 2-联苯硼酸 4688-76-0 3-联苯硼酸 5122-95-2 4-联苯硼酸 5122-94-1 1-萘硼酸 13922-41-3 2-萘硼酸 32316-92-0 9-蒽硼酸 100622-34-2 荧蒽-3-硼酸 359012-63-8 9-菲硼酸 68572-87-2 4-(1-萘基)苯硼酸 870774-25-7 4-(2-萘基)苯硼酸 918655-03-5 苯并菲-2-硼酸 654664-63-8 1-芘硼酸 164461-18-1 (10-苯基蒽-9-基)硼酸 334658-75-2 [10-(1-萘基)-9-蒽]硼酸 400607-46-7 B-(10-[1,1'-联苯]-4-基-9-蒽基)硼酸 400607-47-8 9,9-二甲基芴-2-硼酸 333432-28-3 9,10-双(2-萘基)蒽-2-硼酸 867044-28-8 10-(2-萘基)蒽-9-硼酸 597554-03-5 9,9-二甲基-2,7-芴二硼酸 866100-14-3 B-9,9'-螺二芴-2'-基硼酸 236389-21-2 B-[3-(4-二苯并噻吩基)苯基]硼酸 1307859-67-1 B,B'-2,8-二苯并呋喃二基二硼酸 1222008-13-0 吡啶-3-硼酸 1692-25-7 喹啉-3-硼酸 191162-39-7 喹啉-8-硼酸 86-58-8 9H-咔唑-1-基硼酸 869642-36-4 二苯并噻吩-2,8-二硼酸 761405-37-2 9-苯基咔唑-2-硼酸 1001911-63-2 (9-苯基-9H-咔唑-3-基)硼酸 854952-58-2 4-(9H-咔唑-9-基)苯硼酸 419536-33-7 3-(9H-咔唑-9-基)苯硼酸 864377-33-3 B-[2-(9H-咔唑-9-基)苯基]硼酸 1189047-28-6 二苯并呋喃-4-硼酸 100124-06-9 B-2-二苯并噻吩基硼酸 668983-97-9 联硼酸新戊二醇酯 201733-56-4 联硼酸频那醇酯 73183-34-3 二苯并噻吩-2,8-二硼酸 761405-37-2 4-溴苯硼酸 5467-74-3 4-氯苯硼酸 1679-18-1 硼酸三异丙酯 5419-55-6 3-(2-三亚苯基苯硼酸)频哪醇酯 1115639-92-3 3-甲氧基-2-萘硼酸 104115-76-6 Benzofuran-2-boronic acid CAS 98437-24-2 2,4-Dichlorophenylboronic acid CAS 68716-47-2 [3-(3-Pyridinyl)phenyl]boronic acid CAS 351422-72-5 9-(3-bromophenyl)-9-phenyl-9H-fluorene 1257251-75-4 B-[4-(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯基]-硼酸 952514-79-3 [4-(2-苯基-1H-苯并咪唑-1-基)苯基]硼酸 867044-33-5 四氟硼酸银 14104-20-2 三亚苯-2-基)硼酸频哪醇酯 890042-13-4 9,9-螺二芴-2-硼酸频哪醇酯 884336-44-1 3-氟-2-甲酰基苯硼酸 871126-15-7 5-氯-2-甲酰基苯硼酸 870238-36-1 B-(10-[1,1'-联苯]-2-基-9-蒽基)硼酸 400607-48-9 4-（3-吡啶基)苯硼酸 170230-28-1 2-氯-4-(联苯-3-基)-6-苯基-1,3,5-三嗪 1689576-03-1 4-硼酸三苯胺 201802-67-7 9-菲硼酸新戊二醇酯 1416371-19-1 3,5-二甲基苯硼酸 172975-69-8 二苯并[b,d]呋喃-3-硼酸 395087-89-5 ? 本公司产品用于科研，不用于人体。 以上资料西安齐岳生物科技有限公司提供 wyf 01.26 相关目录： MACS磁珠分选基本原理（图文释义） 半导体光刻胶/LCD 光刻胶/PCB 光刻胶-

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西安齐岳生物科技有限公司是集化学科研和定制与一体的高科技化学公司。业务范围包括化学试剂和产品的研发、生产、销售等。涉及产品为通用试剂的分销、非通用试剂的定制与研发，涵盖生物科技、化学品、中间体和化工材料等领域。
主营产品：COF、MOF单体系列：三蝶烯衍生物、金刚烷衍生物、四苯甲烷衍生物、peg、上转换、石墨烯、光电材料、点击化学、凝集素、载玻片、蛋白质交联剂、脂质体、蛋白、多肽、氨基酸、糖化学等。